真空镀膜和低能离子处理多功能真空套机
设备简介:该多功能设备主要关注低能束应用，可用于表面活化、刻蚀和薄膜沉积技术，并且同时实现多种功能。
磁过滤离子沉积是目前薄膜发展的趋势之一，相比于磁控溅射，具有更低的沉积气压，更大比例的离子，可筛除大颗粒沉积物，并且偏压下的导向性更好，在致密性、洁净性和复杂结构的沉积上有优势。离子束溅射可以沉积薄膜，也可以直接处理材料表面，实现材料的表面构造的改变，尤其是目前纳米材料的发展也需要低能离子的处理。磁控溅射沉积已经用于工业生产，在沉积速率、成本和大面积镀膜上有优势，是实验室常用的镀膜工具。
技术指标：
磁过滤脉冲金属真空弧等离子体源，阴极尺寸Ф10mm，可加负高压脉冲电源，电压0.5-10kV。
霍耳源可辅助磁过滤沉积过程，以及表面清洗；
样品台，可加高偏压10 kV，可控温度达500度；
大面积制备薄膜， 样品可达4英寸；
考夫曼离子源斜对样品，可实现直接表面刻蚀，而非用于沉积薄膜。
联系人及联系方式：
展长勇，zhanchangyong@scu.edu.cn，电话 028-85412230
